Heck偶联：机理、杂质和OPRD案例汇总 Heck反应机理氧化加成（oxidative addition）: R1X (R1为烯基或芳基，X=I > TfO > Br >> Cl)与Pd 0L n的加成，形成二价钯配合物中间体迁移插入 （migratory-insertion）：烯键插入Pd-R1键的 偶联 heck oprd案例 heck偶联 oprd 2025-08-29 12:49 2